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题名/责任者:

金刚石膜制备与应用.上卷/吕反修主编

出版发行项:

北京:科学出版社,2014.08

ISBN及定价:

978-7-03-041822-7 精装/CNY198.00

载体形态项:

xxv, 764页, [4] 页图版:图;25cm

丛编项:

纳米科学与技术

个人责任者:

吕反修 主编

学科主题:

类金刚石膜-研究

中图法分类号:

TB43

中图法分类号:

TB383-51

一般附注:

国家出版基金项目

书目附注:

有书目和索引

提要文摘附注:

本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备、组织结构和性能表征，金刚石膜化学气相沉积理论，以及在电学（电子学）、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用，在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章，第一篇：金刚石膜的制备；第二篇：金刚石膜组织结构和性能表征；第三篇：金刚石膜化学气相沉积理论；第四篇：金刚石膜的应用；第五篇：纳米金刚石膜制备与应用；第六篇：金刚石相关材料的制备与应用。

使用对象附注:

科研人员

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