MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:2
- 题名/责任者:
- 折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/张新宇, 谢长生著
- 出版发行项:
- 北京:国防工业出版社,2021
- ISBN及定价:
- 978-7-118-12284-8 精装/CNY169.00
- 载体形态项:
- 211页:图;25cm
- 丛编项:
- 现代微纳米光电成像探测技术丛书
- 个人责任者:
- 张新宇 著
- 个人责任者:
- 谢长生 著
- 学科主题:
- 刻蚀-研究
- 中图法分类号:
- TN405.98
- 书目附注:
- 有书目 (第209-211页)
- 提要文摘附注:
- 本书主要针对可见光、红外和太赫兹等谱域的折射与衍射微光学结构, 开展新的设计、工艺制作和测试评估方法的研究。重点论述了以折射和衍射微光学积分变换为基础, 有效出射可见光、红外及太赫兹多谱图像与波前的基础理论和基本方法, 建立了基于衍射相位精细构建在设计、仿真、工艺、测试与评估等方面的数据和方法体系。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN405.98/Z897 | 004263604 | 工业技术书库 | 可借 | 工业技术书库 | |
TN405.98/Z897 | 004263605 | 工业技术书库 | 可借 | 工业技术书库 | |
TN405.98/Z897 | 004263606 | 工业技术书库 | 可借 | 工业技术书库 |
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