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题名/责任者:

极紫外光刻/(美) 哈利·杰·莱文森著 高伟民译

出版发行项:

上海:上海科学技术出版社,2022

ISBN及定价:

978-7-5478-5721-2/CNY128.00

载体形态项:

206页:图;24cm

统一题名:

Extreme ultraviolet lithography

个人责任者:

莱文森 (Levinson, Harry J.) 著

个人次要责任者:

高伟民 译

学科主题:

紫外线-光刻系统-研究

中图法分类号:

TN305.7

一般附注:

元基石

版本附注:

据原书2020年英文版译出

书目附注:

有书目和索引

提要文摘附注:

本书是一本论述极紫外光刻技术的最新的专著,该书全面而又精炼地介绍了极紫外光刻技术的各个方面及其发展历程,内容不但涵盖极紫外光源、极紫外光刻曝光系统、极紫外掩模板、极紫外光刻胶、极紫外计算光刻等技术内容,还介绍了极紫外光刻生态系统的其他方面,如极紫外光刻工艺特点和工艺控制,极紫外光刻量测的特殊要求,以及对技术发展路径有着重要影响的极紫外光刻的成本分析等内容,最后作者还讨论了满足未来的芯片工艺节点要求的极紫外光刻技术发展方向。

使用对象附注:

本书可作为集成电路、微纳电子、光电工程等专业本科生的参考教材,芯片制造、半导体设备、光刻技术等相关方面的技术和管理人员的参考书,也可供短波光学、激光与物质相互作用、激光等离子体、极紫外光辐射等领域的研究生和专业研究人员参考

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