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题名/责任者:

流体辅助微纳抛光原理与技术/程灏波著

出版发行项:

北京:科学出版社,2014

ISBN及定价:

978-7-03-040521-0/CNY75.00

载体形态项:

246页:图;24cm

个人责任者:

程灏波 著

学科主题:

纳米技术-应用-流体-抛光

中图法分类号:

TG580.692

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书结合著者科研团队多年在流体辅助抛光技术领域的研究和经验, 对目前应用较为广泛的流体辅助抛光方法从浅到深进行系统的介绍。不仅包括了技术的发展和加工机理, 而且介绍了相关的加工系统和目前最新的工艺研究成果, 使读者对前人的工作能够全面的认识和理解。全书共分为九章。其中从而二章开始每一章为读者介绍一种流体辅助抛光技术。有第二章开始一次介绍了磁介质辅助研抛技术、第三章讲述磁流变抛光技术、电流变抛光技术、气射流抛光技术、磨料水射抛光技术、磁射流抛光技术、浮法抛光技术、化学抛光。

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