MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：9
- 题名/责任者:
- 现代集成电路制造技术原理与实践/李惠军编著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2009.05
- ISBN及定价:
- 978-7-121-07753-1/CNY49.00
- 载体形态项:
- xiii, 435页:图;26cm
- 丛编项:
- 电子信息与电气学科规划教材.电子科学与技术专业
- 个人责任者:
- 李惠军 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-高等教育-教材
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书共18章，主要内容包括：硅材料及衬底制备、外延生长工艺原理、氧化介质薄膜生长、半导体的高温掺杂、离子注入低温掺杂、薄膜气相淀积工艺、图形光刻工艺原理、掩模制备工艺原理、集成电路工艺仿真等。
- 使用对象附注:
- 普通高等教育“十一五”国家级规划教材
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| TN405/L381 | 000757003 | - |  工业技术书库
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可借 |
| TN405/L381 | 000757004 | - | 工业技术书库
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可借 |
| TN405/L381 | 000757005 | - | 工业技术书库
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可借 |
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