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题名/责任者:

薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术/陈吉堃著

出版发行项:

北京:科学出版社,2021.10

ISBN及定价:

978-7-03-069915-2/CNY78.00

载体形态项:

148页:图 (部分彩图);24cm

并列正题名:

Plasma technique and analysis in thin film vacuum depositions

个人责任者:

陈吉堃 著

学科主题:

低温-等离子体-研究

中图法分类号:

O536

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法 ; 重点结合脉冲激光沉积实例对等离子体与背景气体间复杂的物理碰撞与化学反应, 以及对薄膜沉积的基础性影响关系作详细介绍。本书对于等离子体与薄膜真空沉积技术的发展具有重要的推动意义和学术参考价值。

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