MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：23
- 题名/责任者:
- 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟/赵时璐著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2013.04
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-6227-7/CNY26.00
- 载体形态项:
- 232页:图;21cm
- 个人责任者:
- 赵时璐 著
- 学科主题:
- 计算机模拟-应用-离子镀-研究
- 中图法分类号:
- TG174.444-39
- 书目附注:
- 有书目 (第227-232页)
- 提要文摘附注:
- 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章, 主要内容包括: 绪论 ; 真空镀膜技术的介绍 ; 多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础 ; 多弧离子镀物理过程的分析 ; 计算机模拟技术 ; 数学模型的建立 ; 程序的编制等。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| TG174.444-39/Z753 | 000925012 | - |  工业技术书库
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| TG174.444-39/Z753 | 000925013 | - | 工业技术书库
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| TG174.444-39/Z753 | 000925014 | - | 工业技术书库
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| TG174.444-39/Z753 | 000925015 | - | 工业技术书库
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| TG174.444-39/Z753 | 000925016 | - | 工业技术书库
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