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题名/责任者:

二次电子发射理论及应用/封国宝 ... [等] 著

出版发行项:

北京:北京理工大学出版社,2022

ISBN及定价:

978-7-5763-1414-4 精装/CNY76.00

载体形态项:

238页, [5] 页图版:图 (部分彩图);25cm

并列正题名:

Theory and application of secondary electron emission

丛编项:

空间科学与技术研究丛书

个人责任者:

封国宝 著

个人责任者:

崔万照 著

个人责任者:

王芳 著

学科主题:

二次电子发射

中图法分类号:

O462.2

一般附注:

“十四五”时期国家重点出版物出版专项规划项目·重大出版工程 国家出版基金项目

题名责任附注:

题名页题: 封国宝, 崔万照, 王芳, 苗光辉著

责任者附注:

封国宝, 博士 (后), 高级工程师, 毕业于西安交通大学电子科学与技术专业, 现任职于中国空间技术研究院西安分院。长期从事空间微波环境下粒子理论仿真和微波部件辐照效应研究。崔万照, 博士、研究员、博士生导师, 中国空间技术研究院首席研究员, 航天科技集团公司卫星通信方向学术技术带头人、航天科技集团公司科技创新团队带头人。王芳, 西安交通大学电子科学与工程学院等离子体与微波电子学研究所副教授。2010年毕业于西安交通大学, 获博士学位, 主要研究方向为电子束微纳结构检测、材料电子辐照效应的数值模拟和实验研究。

书目附注:

有书目 (第215-226页) 和索引

提要文摘附注:

本书共分为六章, 其中, 第一章为绪论, 介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型, 以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台, 除此之外, 还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术, 列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第五部分简要叙述了电子轰击对材料的影响。第六部分讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用, 并展开了一些分析。

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