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题名/责任者:

光学光刻和极紫外光刻:a modeling perspective/(德) 安迪·爱德曼著 高伟民, 徐东波, 诸波尔译

出版发行项:

上海:上海科学技术出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-5478-5720-5/CNY195.00

载体形态项:

316页:图 (部分彩图);24cm

统一题名:

Optical and EUV lithography : a modeling perspective

个人责任者:

爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著

个人次要责任者:

高伟民 译

个人次要责任者:

徐东波 译

个人次要责任者:

诸波尔 译

学科主题:

光学-光刻系统-研究

学科主题:

紫外线-光刻系统-研究

中图法分类号:

TN305.7

责任者附注:

安迪·爱德曼, 国际光学工程学会 (SPIE) 会士, 德国弗劳恩霍夫协会 (Fraunhofer) 下属集成系统和元器件技术研究所 (IISB) 计算光刻和光学部门的负责人。高伟民, 阿斯麦公司 (ASML) 中国区技术总监, 资深的光刻技术专家。徐东波, 比利时微电子研发中心 (IMEC) 研究员。诸波尔, 阿斯麦公司 (ASML) 中国区计算光刻高级工程师、项目主管。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书是一本最新的光刻技术专著, 内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上, 涵盖了全面又丰富的内容; 在论述光刻技术的物理机制和数学模型时, 采用了完整而不繁琐的方法, 增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后, 还专门开辟章节, 介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点, 揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点, 它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。

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