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题名/责任者:

纳米集成电路制造工艺/张汝京等编著

出版发行项:

北京:清华大学出版社,2014

ISBN及定价:

978-7-302-36027-8/CNY69.00

载体形态项:

xiii, 433页:图;26cm

并列正题名:

Nanoscale integrated circuits-the manufacturing process

个人责任者:

张汝京 编著

学科主题:

纳米材料-集成电路工艺

中图法分类号:

TN405

责任者附注:

张汝京, 于美国南方卫理公会大学 (Southern Methodist University) 取得电子工程博士学位。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for anufacturing), 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。

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