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题名/责任者:

真空镀膜/李云奇编著

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2012

ISBN及定价:

978-7-122-12780-8/CNY85.00

载体形态项:

310页:图;26cm

丛编项:

真空科学与技术丛书/主编达道安

个人责任者:

李云奇 编著

学科主题:

真空技术-镀膜工艺

中图法分类号:

TB43

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书是本着突出近代真空镀膜技术进步, 注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章, 内容包涵了真空镀膜中物理基础, 各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求, 各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控, 真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。

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