MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:11
- 题名/责任者:
- 集成电路制造工艺与工程应用/温德通编著
- 出版发行项:
- 北京:机械工业出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-111-59830-5/CNY99.00
- 载体形态项:
- xvii, 241页:图 (部分彩图);24cm
- 个人责任者:
- 温德通 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 相关题名附注:
- 英文题名取自封面
- 责任者附注:
- 温德通, 资深芯片设计工程师。毕业于西安电子科技大学微电子学院。
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书以实际应用为出发点,对集成电路制造的主流工艺技术进行了逐一介绍,例如应变硅技术、HKMG技术、SOI技术和FinFET技术,然后从工艺整合的角度,通过图文对照的形式对典型工艺进行介绍,例如隔离技术、硬掩膜版技术、LDD技术、金属硅化技术、ESD IMP工艺技术以及Al和Cu金属互连。然后把这些工艺技术应用于实际工艺流程中,通过实例让读者能快速的掌握具体工艺技术的实际应用。
全部MARC细节信息>>
索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN405/W263 | 004067248 | 工业技术书库 | 可借 | 工业技术书库 | |
TN405/W263 | 004067249 | 工业技术书库 | 可借 | 不定馆藏地 | |
TN405/W263 | 004067250 | 工业技术书库 | 可借 | 工业技术书库 |
显示全部馆藏信息