MARC状态：审校 文献类型：西文图书 浏览次数：3
- 题名/责任者:
- Photoresist : materials and processes / W. S. DeForest.
- 出版发行项:
- New York : McGraw-Hill, [1975]
- ISBN:
- 0070162301
- 载体形态项:
- xi, 269 p. : ill. ; 24 cm.
- 个人责任者:
- DeForest, William S.
- 论题主题:
- Photoresists.
- 论题主题:
- Integrated circuits.
- 论题主题:
- Printed circuits.
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- Includes bibliographical references and index.
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