MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:13
- 题名/责任者:
- 二氧化硅低维微/纳米材料的制备及其光学性能/吕航, 杨喜宝著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-9616-6/CNY51.00
- 载体形态项:
- 108页:图;24cm
- 个人责任者:
- 吕航 著
- 个人责任者:
- 杨喜宝 著
- 学科主题:
- 氧化硅-纳米材料-材料制备-研究
- 中图法分类号:
- TB383
- 相关题名附注:
- 英文题名取自封面
- 书目附注:
- 有书目 (第103-108页)
- 提要文摘附注:
- 二氧化硅微/纳米材料是纳米材料中非常重要的一员,其在光致发光,透明绝缘,光化学,光波导和生物医学等领域具有广泛的应用视野,它具有优异的物理力学性能和独特的微/纳米结构性能。利用热蒸法发制备二氧化硅低维微/纳米材料,在简单有效低耗的同时可以对材料的微结构进行调控,本书对制备方法和机制进行实验分析,探索低维纳米结构和性能的影响因素,为纳米材料功能器件的设计具有重要指导性意义。
- 使用对象附注:
- 本书可供从事硅基材料研究的科研人员参考
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| TB383/L371-2 | 004364755 | 工业技术书库
|
可借 | |
| TB383/L371-2 | 004364756 | 工业技术书库
|
可借 |
显示全部馆藏信息




工业技术书库