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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:13

题名/责任者:
二氧化硅低维微/纳米材料的制备及其光学性能/吕航, 杨喜宝著
出版发行项:
北京:冶金工业出版社,2023
ISBN及定价:
978-7-5024-9616-6/CNY51.00
载体形态项:
108页:图;24cm
并列正题名:
Preparation and optical properties of low-dimensional silica micro/nano materials
个人责任者:
吕航
个人责任者:
杨喜宝
学科主题:
氧化硅-纳米材料-材料制备-研究
中图法分类号:
TB383
相关题名附注:
英文题名取自封面
书目附注:
有书目 (第103-108页)
提要文摘附注:
二氧化硅微/纳米材料是纳米材料中非常重要的一员,其在光致发光,透明绝缘,光化学,光波导和生物医学等领域具有广泛的应用视野,它具有优异的物理力学性能和独特的微/纳米结构性能。利用热蒸法发制备二氧化硅低维微/纳米材料,在简单有效低耗的同时可以对材料的微结构进行调控,本书对制备方法和机制进行实验分析,探索低维纳米结构和性能的影响因素,为纳米材料功能器件的设计具有重要指导性意义。
使用对象附注:
本书可供从事硅基材料研究的科研人员参考
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TB383/L371-2 004364755   工业技术书库     可借
TB383/L371-2 004364756   工业技术书库     可借
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