MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:18
- 题名/责任者:
- 集成电路制造技术:原理与工艺/王蔚, 田丽, 任明远编著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2010
- ISBN及定价:
- 978-7-121-11751-0/CNY39.80
- 载体形态项:
- 395页:图;26cm
- 丛编项:
- 电子信息与电气学科规划教材.电子科学与技术类
- 个人责任者:
- 王蔚 编著
- 个人责任者:
- 田丽 编著
- 个人责任者:
- 任明远 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目 (第394-395页)
- 提要文摘附注:
- 全书分5个单元。第1单元介绍硅衬底, 主要介绍硅单晶的结构特点, 单晶硅锭的拉制及硅片 (包含体硅片和外延硅片) 的制造工艺及相关理论。第2-5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺 (氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试) 的原理、方法、设备, 以及所依托的技术基础及发展趋势。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN405/W846 | 000791551 | - | ![]() |
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可借 | 不定馆藏地 |
TN405/W846 | 000791555 | - | ![]() |
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