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题名/责任者:

晶体生长微观机理及晶体生长边界层模型/殷绍唐著

出版发行项:

北京:科学出版社,2020.08

ISBN及定价:

978-7-03-061432-2 精装/CNY98.00

载体形态项:

x, 161页, [6] 页图版:图;24cm

并列正题名:

Microcosmic mechanism of crystal growth and boundary layer model of crystal growth

个人责任者:

殷绍唐 著

学科主题:

晶体生长-机理

学科主题:

晶体生长-边界层-模型

中图法分类号:

O78

出版发行附注:

国家科学技术学术著作出版基金资助出版

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书突破了晶体生长机理研究的传统思维, 采用高温激光显微拉曼光谱和同步辐射X射线衍射等现代观测技术, 从微观尺度上, 原位实时观测晶体生长过程中微观结构的演化。发现了晶体熔融生长时, 熔体和晶体之间存在熔体结构向晶体结构过渡的晶体生长边界层, 在边界层内, 生长基元已具有单胞结构。生长晶面电荷静电场的计算, 证明了生长界面上存在周期性丘状网格静电场。生长基元在界面静电场的作用下的取向获得调整, 并在静电力的作用下准确叠合到生长界面的格位上。

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