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西文图书1.Vacuum deposition of thin films / TG174.444/H735
馆藏复本:1
可借复本:1 Holland, L.
Chapman & Hall, 1956.
(0) 馆藏 -
中文图书2.多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 TG174.444-39/Z753
馆藏复本:5
可借复本:5 赵时璐著
冶金工业出版社 2013.04
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馆藏复本:1
可借复本:1 Holland, L.
Chapman & Hall, 1956.
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馆藏复本:5
可借复本:5 赵时璐著
冶金工业出版社 2013.04
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