检索到 10 条 分类号=TN305.7 的结果
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中文图书1.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN305.7/L289
馆藏复本：2
可借复本：0 (美) 索斯藤·莱尔著
机械工业出版社 2023.09
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中文图书2.半导体干法刻蚀技术 TN305.7/Y467
馆藏复本：2
可借复本：0 (日) 野尻一男著
机械工业出版社 2024.01
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中文图书3.等离子体刻蚀工艺及设备 TN305.7/Z429
馆藏复本：3
可借复本：3 赵晋荣主编
电子工业出版社 2023
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中文图书4.极紫外光刻 TN305.7/L861
馆藏复本：3
可借复本：3 (美) 哈利·杰·莱文森著
上海科学技术出版社 2022
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中文图书5.激光热敏光刻:原理与方法:principle and method TN305.7/W431
馆藏复本：3
可借复本：3 魏劲松著
清华大学出版社 2022
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中文图书6.光学光刻和极紫外光刻:a modeling perspective TN305.7/A254
馆藏复本：2
可借复本：1 (德) 安迪·爱德曼著
上海科学技术出版社 2023
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中文图书7.集成电路与光刻机 TN4/W874
馆藏复本：3
可借复本：3 王向朝, 戴凤钊等著
科学出版社 2020
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中文图书8.光刻技术 TN305.7/B263-5, 73.731081/3542Q4
馆藏复本：6
可借复本：6 《半导体器件制造技术丛书》编写组编
国防工业出版社 1972
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中文图书9.国外集成电路光刻制版自动化 73.7552/2343
馆藏复本：3
可借复本：3 上海市半导体器件科技情报协作网编
上海科学科技情报研究所 1977
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中文图书10.光刻 73.67/2315Q5
馆藏复本：2
可借复本：2 上海无线电十七厂编
上海人民出版社 1971
(0) 馆藏
