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中文图书1.计算光刻与版图优化 TN405.98/W937
馆藏复本:3
可借复本:3 韦亚一 ... [等] 著
电子工业出版社 2021
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中文图书2.国外集成电路光刻制版自动化 75.7552/2343
馆藏复本:2
可借复本:2 上海无线电七厂, 上海科学技术情报研究所编译
上海科学技术情报研究所 1977
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中文图书3.光刻技术 TN305.7/B263-5, 73.731081/3542Q4
馆藏复本:6
可借复本:6 《半导体器件制造技术丛书》编写组编
国防工业出版社 1972
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中文图书4.国外集成电路光刻制版自动化 73.7552/2343
馆藏复本:3
可借复本:3 上海市半导体器件科技情报协作网编
上海科学科技情报研究所 1977
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中文图书5.电子束刻蚀技术 TN405.98/B476
馆藏复本:1
可借复本:1 (美)布鲁尔(Brewer,G.R.)著
国防工业出版社 1986
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中文图书6.光刻 73.67/2315Q5
馆藏复本:2
可借复本:2 上海无线电十七厂编
上海人民出版社 1971
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