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• 200 1_ |a 真空镀膜 |A zhen kong du mo |f 李云奇编著

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2012

• 215 __ |a 310页 |c 图 |d 26cm

• 225 2_ |a 真空科学与技术丛书 |A zhen kong ke xue yu ji shu cong shu |f 主编达道安

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书是本着突出近代真空镀膜技术进步, 注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章, 内容包涵了真空镀膜中物理基础, 各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求, 各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控, 真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。

• 410 _0 |1 2001 |a 真空科学与技术丛书 |f 主编达道安

• 606 0_ |a 真空技术 |A zhen kong ji shu |x 镀膜工艺

• 690 __ |a TB43 |v 5

• 701 _0 |a 李云奇 |A li yun qi |4 编著

• 801 _0 |a CN |b 三新书业 |c 20121130

• 905 __ |a AUSTL |d TB43/L928