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• 010 __ |a 978-7-121-40226-5 |d CNY79.00

• 099 __ |a CAL 012021013738

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• 102 __ |a CN |b 110000

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 计算光刻与版图优化 |A ji suan guang ke yu ban tu you hua |f 韦亚一 ... [等] 著

• 210 __ |a 北京 |c 电子工业出版社 |d 2021

• 215 __ |a X, 238页 |c 图 |d 26cm

• 225 2_ |a 集成电路技术丛书 |A ji cheng dian lu ji shu cong shu

• 225 2_ |a 中国科学院大学研究生教学辅导书系列 |A zhong guo ke xue yuan da xue yan jiu sheng jiao xue fu dao shu xi lie

• 304 __ |a 题名页题其余责任者: 粟雅娟, 董立松, 陈利斌, 陈睿, 赵利俊

• 312 __ |a 英文题名取自封面

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书共7章, 首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍, 接着介绍集成电路物理设计 (版图设计) 的全流程, 然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计, 最后介绍设计与工艺协同优化。

• 410 _0 |1 2001 |a 集成电路技术丛书

• 410 _0 |1 2001 |a 中国科学院大学研究生教学辅导书系列

• 510 1_ |a Computational lithography & layout optimization |z eng

• 606 0_ |a 集成电路工艺 |A ji cheng dian lu gong yi |x 电子束光刻 |x 研究生 |j 教材

• 690 __ |a TN405.98 |v 5

• 701 _0 |a 韦亚一 |A wei ya yi |4 著

• 801 _0 |a CN |b AUSTL |c 20210910

• 905 __ |a AUSTL |d TN405.98/W937