机读格式显示(MARC)

• 000 01843nam0 2200313 450

• 001 0000445365

• 005 20231115160000.0

• 010 __ |a 978-7-5478-5720-5 |d CNY195.00

• 100 __ |a 20221117d2023 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 310000

• 105 __ |a a a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 光学光刻和极紫外光刻 |A guang xue guang ke he ji zi wai guang ke |f (德) 安迪·爱德曼著 |d = Optical and EUV lithography |e a modeling perspective |f Andreas Erdmann |g 高伟民, 徐东波, 诸波尔译 |z eng

• 210 __ |a 上海 |c 上海科学技术出版社 |d 2023

• 215 __ |a 316页 |c 图 (部分彩图) |d 24cm

• 314 __ |a 安迪·爱德曼, 国际光学工程学会 (SPIE) 会士, 德国弗劳恩霍夫协会 (Fraunhofer) 下属集成系统和元器件技术研究所 (IISB) 计算光刻和光学部门的负责人。高伟民, 阿斯麦公司 (ASML) 中国区技术总监, 资深的光刻技术专家。徐东波, 比利时微电子研发中心 (IMEC) 研究员。诸波尔, 阿斯麦公司 (ASML) 中国区计算光刻高级工程师、项目主管。

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书是一本最新的光刻技术专著, 内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上, 涵盖了全面又丰富的内容; 在论述光刻技术的物理机制和数学模型时, 采用了完整而不繁琐的方法, 增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后, 还专门开辟章节, 介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点, 揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点, 它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。

• 500 10 |a Optical and EUV lithography : a modeling perspective |A Optical And Euv Lithography : A Modeling Perspective |m Chinese

• 606 0_ |a 光学 |A guang xue |x 光刻系统 |x 研究

• 606 0_ |a 紫外线 |A zi wai xian |x 光刻系统 |x 研究

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 701 _1 |a 爱德曼 |A ai de man |g (Erdmann, Andreas) |4 著

• 702 _0 |a 高伟民 |A gao wei min |4 译

• 702 _0 |a 徐东波 |A xu dong bo |4 译

• 702 _0 |a 诸波尔 |A zhu bo er |4 译

• 801 _0 |a CN |b 湖北三新 |c 20221117

• 905 __ |a AUSTL |d TN305.7/A254