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• 010 __ |a 978-7-111-68070-3 |d CNY98.00

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 现代离子镀膜技术 |A xian dai li zi du mo ji shu |f 王福贞, 武俊伟等编著

• 210 __ |a 北京 |c 机械工业出版社 |d 2021

• 215 __ |a XIV, 370页 |c 图 |d 24cm

• 312 __ |a 英文题名取自封面

• 314 __ |a 王福贞, 教授, 北京市有突出贡献专家, 享受国务院津贴。现任中国真空学会薄膜委员会顾问委员。1976年开始从事离子镀膜技术研发、教学。1994年北京联合大学退休。先后取得活性反应离子镀膜机、空心阴极离子镀机、矩形平面大弧源离子镀膜机、柱状阴极电弧源、柱状磁控溅射靶、电弧离子渗金属等科研成果和授权多项专利。编著出版了《表面沉积技术》和《气相沉积应用技术》两本技术图书。2014年年先后制作了《离子镀膜技术》和《离子镀膜技术更新版》两部视频教程, 并在网易云课堂免费播放。武俊伟, 博士, 哈尔滨工业大学 (深圳) 副教授。现任深圳市真空技术行业协会副秘书长、美国真空镀膜协会 (SVC) 国际顾问委员会委员、深圳森丰真空镀膜有限公司技术顾问等。

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书系统介绍了各种现代离子镀膜技术的原理、特点、装备、工艺、发展历程和应用。其主要内容包括概述、真空物理和等离子体物理基础知识、真空蒸发镀膜、辉光放电型离子镀膜、热弧光放电型离子镀膜、阴极电弧离子镀膜、磁控溅射镀膜、带电粒子流在镀膜中的作用、等离子体增强化学气相沉积、等离子体聚合, 以及离子镀膜技术在太阳能利用、信息显示薄膜、装饰性薄膜、光学薄膜、硬质涂层、碳基薄膜、热电薄膜等领域和低温离子化学热处理中的应用。本书内容全面、新颖, 紧密联系实际, 具有很强的系统性、科学性、先进性和实用性。

• 510 1_ |a Modern lon plating technology |z eng

• 606 0_ |a 等离子涂层 |A deng li zi tu ceng |x 镀膜工艺

• 690 __ |a TG174.442 |v 5

• 701 _0 |a 王福贞 |A wang fu zhen |4 编著

• 701 _0 |a 武俊伟 |A wu jun wei |4 编著

• 801 _0 |a CN |b AUSTL |c 20211108

• 905 __ |a AUSTL |d TG174.442/W339