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• 010 __ |a 978-7-03-040521-0 |d CNY75.00

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• 200 1_ |a 流体辅助微纳抛光原理与技术 |A liu ti fu zhu wei na pao guang yuan li yu ji shu |f 程灏波著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2014

• 215 __ |a 246页 |c 图 |d 24cm

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书结合著者科研团队多年在流体辅助抛光技术领域的研究和经验, 对目前应用较为广泛的流体辅助抛光方法从浅到深进行系统的介绍。不仅包括了技术的发展和加工机理, 而且介绍了相关的加工系统和目前最新的工艺研究成果, 使读者对前人的工作能够全面的认识和理解。全书共分为九章。其中从而二章开始每一章为读者介绍一种流体辅助抛光技术。有第二章开始一次介绍了磁介质辅助研抛技术、第三章讲述磁流变抛光技术、电流变抛光技术、气射流抛光技术、磨料水射抛光技术、磁射流抛光技术、浮法抛光技术、化学抛光。

• 606 0_ |a 纳米技术 |A na mi ji shu |x 应用 |x 流体 |x 抛光

• 690 __ |a TG580.692 |v 5

• 701 _0 |a 程灏波 |A cheng hao bo |4 著

• 801 _0 |a CN |b 三新书业 |c 20140805

• 905 __ |a AUSTL |d TG580.692/C372