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• 200 1_ |a 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 |A duo hu li zi du chen ji guo cheng de ji suan ji mo ni |f 赵时璐著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2013.04

• 215 __ |a 232页 |c 图 |d 21cm

• 320 __ |a 有书目 (第227-232页)

• 330 __ |a 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章, 主要内容包括: 绪论 ; 真空镀膜技术的介绍 ; 多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础 ; 多弧离子镀物理过程的分析 ; 计算机模拟技术 ; 数学模型的建立 ; 程序的编制等。

• 606 0_ |a 计算机模拟 |A ji suan ji mo ni |x 应用 |x 离子镀 |x 研究

• 690 __ |a TG174.444-39 |v 5

• 701 _0 |a 赵时璐 |A zhao shi lu |4 著

• 801 _0 |a CN |b 时代传媒 |c 20130605

• 905 __ |a AUSTL |d TG174.444-39/Z753